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氧化铌(Nb2Ox)靶材具有独特的介电、光学和化学稳定性,在光学镀膜、电子器件、光催化剂、防腐涂层等诸多高科技领域有重要应用。
主要成分:Nb2Ox;
可以提供靶材与粉体,纯度≥4N(99.99%);
可根据客户要求进行成分配比;
可以进行各类掺杂,如钨等。